Moda, truccatrici Accademia Liliana Paduano alla Milano Fashion Week

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Appuntamento dal 19 al 25 settembre con la Settimana della Moda di Milano: dopo la fashion week nella Grande Mela, il testimone dell’haute couture passerà alla città meneghina per quella che sarà l’edizione dei debutti e dei grandi ritorni. Ed un calendario ricco di appuntamenti, per un totale di 167 eventi: 67 sfilate, di cui 5 digitali e 72 presentazioni tra cui spiccano Prada, Versace, Giorgio Armani e Dolce&Gabbana oltre al debutto di Sabato De Sarno a Gucci, la prima collezione di Tom Ford dopo l’uscita del designer, il ritorno di Fiorucci con la direzione creativa di Francesca Murri.

Un’atmosfera decisamente glamour insomma che non mancherà di elettrizzare i fortunati protagonisti di uno degli eventi più attesi d’Italia. Tra questi, anche le giovanissime truccatrici dell’Accademia Liliana Paduano, come ogni anno Official Make Up Artist all’evento iconico che celebra la moda.

Accompagnati dalle docenti Anna Ferrara e Filomena Pascarella, saranno quindi alla Fashion Week le napoletane Alessandra Morgillo, Alessia Improta, Alessia Castelluccio, Anthea Badia, Alessia Ciccarelli, Nunzia D’Anna, Elena Capuano, Erika Iovinelli, Fabiana Festa, Federica Rusciano, Floriana Amodio, Ginevra Monsieri, Isabel Nomiminato, Lucia Di Gioia, Miriam Filosa, Miriam Pignata, Nancy Quatrano, Roberta Pepe, Rosa Riccio, Simona Iazzetta, Teresa Mirra, Eleonora Volkova, Ylenia Caputo ed il giovane truccatore Guseppe Giannuscio.

Gli allievi dell’Accademia Trucco Liliana Paduano si occuperanno di preparare le modelle per le passerelle, garantendo che il loro aspetto e ogni dettaglio siano perfetti per l’outfit previsto. In particolare, Liliana Paduano sarà in prima fila sia il 18 per curare il makeup dei seguent brand: Martino Midali, Miss Bikini, Audrey Vallens, Oblique, Sabrina Tonello, Sophia Nubes e Fracomina, sia il 19, il giorno ufficiale dell’inizio della kermesse, dove realizzeranno il makeup ufficiale, tra gli altri, per Angelo Cruciani ed Alberto Zambelli.